複合材の清浄化方法及びセルフクリ-ニング性複合材機構

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-280059
公開番号（公開出願番号）：特開平11-300303
出願日： 1998年10月01日
公開日（公表日）： 1999年11月02日
要約：

【要約】【課題】励起光照度が低い場合でも光触媒被覆した複合材表面を清浄な状態に維持する方法の提供。【解決手段】光触媒被覆した基材を準備する工程と、前記光触媒を光励起することにより基材表面を親水性にする工程と、前記層表面を洗浄する軟水を準備する工程と、軟水で基材表面を洗浄する工程を含む。

請求項（抜粋）：

複合材表面を清浄化する方法であって、光触媒粒子を含有する層が形成された複合材を準備する工程と、前記光触媒を光励起することにより前記層表面を親水性にする工程と、前記層表面を洗浄する軟水を準備する工程と、前記層表面を軟水で洗浄する工程からなる基材の清浄化方法。

IPC (10件)：

B08B 7/00 , A47K 3/00 , A47K 4/00 , A47K 5/00 , A47K 10/00 , A47K 11/00 , A47K 13/00 , B01J 35/02 , C08L 83/06 , C09K 3/18 104

FI (10件)：

B08B 7/00 , A47K 3/00 Z , A47K 4/00 , A47K 5/00 , A47K 10/00 , A47K 11/00 , A47K 13/00 , B01J 35/02 J , C08L 83/06 , C09K 3/18 104

前のページに戻る