特許
J-GLOBAL ID:200903029051663911

ウエハ移載用治具

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 泉 克文
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-023765
公開番号(公開出願番号):特開平5-226452
出願日: 1992年02月10日
公開日(公表日): 1993年09月03日
要約:
【要約】【目的】 治具の反りおよび発生するパーティクル量を低減させる。【構成】 ウエハWを載置できるようにした基材11を常圧焼結SiCにより形成し、基材11のウエハWが接触する箇所にCVDやPVDなどによりSi含有膜15を被覆する。Si含有膜15の厚さは20〜100μm、表面の平均平面粗さは10μm以下とする。【効果】 長期間使用しても治具の反りがほとんど生じなくなり、発生するパーティクル量もきわめて少なくなる。
請求項(抜粋):
ウエハを載置できるように常圧焼結SiCにより形成された基材と、その基材の少なくともウエハが接触する箇所に被覆されたSi含有膜とを備えてなり、そのSi含有膜は厚さが20〜100μm、表面の平均平面粗さが10μm以下であることを特徴とするウエハ移載用治具。
IPC (2件):
H01L 21/68 ,  B65G 49/07
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 特開昭61-213374
  • 特開昭64-014914
  • 特開平1-209739

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