特許

J-GLOBAL ID：200903029058192485

X線マスクおよびその製造方法

発明者： 仲前 一男 ,  平田 嘉裕 ,  羽賀 剛
出願人/特許権者： 住友電気工業株式会社
代理人 (6件)： 深見 久郎 ,  森田 俊雄 ,  仲村 義平 ,  堀井 豊 ,  野田 久登 ,  酒井 將行
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-357084
公開番号（公開出願番号）：特開2006-163177
出願日： 2004年12月09日
公開日（公表日）： 2006年06月22日
要約：

【課題】 大面積の窓領域を有する、製造効率の高いX線マスクを提供する。【解決手段】 本発明のX線マスクは、X線リソグラフィにおいてレジストにパターンを転写するマスクであり、X線透過部と、X線透過部により保持されるX線吸収体とを備える。このX線透過部を構成するX線透過膜は、Al、Ti、Cr、Mn、Fe、Co、NiもしくはCuのうち少なくとも1つの金属、または、その金属化合物により構成される層を有することを特徴とする。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

X線リソグラフィにおいてレジストにパターンを転写するマスクであって、X線透過部と、該X線透過部により保持されるX線吸収体とを備え、前記X線透過部を構成するX線透過膜は、Al、Ti、Cr、Mn、Fe、Co、NiもしくはCuのうち少なくとも1つの金属、または、その金属化合物により構成される層を有することを特徴とするX線マスク。

IPC (3件)：

G03F 7/20 ,  G03F 1/16 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F7/20 503 ,  G03F1/16 A ,  H01L21/30 531M

Fターム (7件)：

2H095BA12 ,  2H095BC27 ,  2H097CA15 ,  2H097JA02 ,  2H097LA15 ,  5F046GA02 ,  5F046GD03