特許
J-GLOBAL ID：200903029066888014
膜の穿孔方法および装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
稲葉 滋
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2000006045
公開番号（公開出願番号）：WO2001-019953
出願日： 2000年09月06日
公開日（公表日）： 2001年03月22日
要約：
【要約】刺激により膜変性反応が誘起される膜変性体を、膜10の少なくとも一部に接触あるいは近接させ、該膜変性体に該刺激を与えることで膜10を変性させて膜破壊部材1によって膜10を穿孔する方法であって、該刺激は膜破壊部材10を媒体として与えられる。刺激を膜内に注入される物質が膜破壊剤の影響を受けることを可及的に防止する。また、簡単な構成でありながら、局所的に良好に刺激を与えることができる。
請求項（抜粋）：
刺激により膜変性反応が誘起される膜変性体を、膜の少なくとも一部に接触あるいは近接させ、該膜変性体に該刺激を与えることで該膜を変性させて膜破壊部材によって該膜を穿孔する方法であって、該刺激は該膜破壊部材を媒体として与えられることを特徴とする膜の穿孔方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C12M 1/00 A
, C12N 15/00 A
