特許

J-GLOBAL ID：200903029094351034

溶存酸素除去装置および溶存酸素除去装置における水素ガス処理方法

発明者： 杉澤 政宣 ,  知福 博行
出願人/特許権者： 神鋼パンテツク株式会社
代理人 (1件)： 藤本 昇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-025671
公開番号（公開出願番号）：特開平7-232179
出願日： 1994年02月23日
公開日（公表日）： 1995年09月05日
要約：

【要約】【目的】 溶存酸素除去装置において、カラム内に発生する水素を安全に処理することを目的とするものである。【構成】 酸素を含む水性媒体13と水素ガスを混合し、金属触媒を用いて水素と酸素を反応させて水を生成して前記水性媒体13から酸素を除去する化学的溶存酸素除去手段1 と、前記化学的溶存酸素除去手段1 による酸素除去時に、酸素と反応せずに発生した水素ガス又は水素ガスを含む水性媒体を、酸素又は酸素を含む水性媒体と混合し、且つ金属触媒を用いて水素と酸素を反応させて水を生成して水素ガスを除去する化学的水素ガス除去手段9 とからなることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

酸素を含む水性媒体(13)と水素ガスを混合し、金属触媒を用いて水素と酸素を反応させて水を生成して前記水性媒体(13)から酸素を除去する化学的溶存酸素除去手段(1) と、前記化学的溶存酸素除去手段(1) による酸素除去時に、酸素と反応せずに発生した水素ガス又は水素ガスを含む水性媒体を、酸素又は酸素を含む水性媒体と混合し、且つ金属触媒を用いて水素と酸素を反応させて水を生成して水素ガスを除去する化学的水素ガス除去手段(9) とからなることを特徴とする溶存酸素除去装置。

IPC (3件)：

C02F 1/58 ZAB ,  B01J 23/40 ,  C02F 1/70 ZAB

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 脱酸素装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-097251   出願人：栗田工業株式会社
• 水処理の方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-116754   出願人：株式会社トーケミ
• 特開平2-265604