特許
J-GLOBAL ID：200903029097511610

生成物製造装置ならびにそれを用いた微粒子の製造方法

発明者：
中川路 藤人

中川路 藤人 について


出願人/特許権者：
京セラ株式会社

京セラ株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-339880
公開番号（公開出願番号）：特開2006-188666
出願日： 2005年11月25日
公開日（公表日）： 2006年07月20日
要約：
【課題】本発明は、均質な生成物を効率よく容易に作製することのできる生成物製造装置を提供することを目的とするものである。また、均質な微粒子、特にナノメートルサイズの半導体ナノ粒子を効率よく容易に作製するための製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】流体を流路を経由して、内径が5mm以下の反応路1に流通させ、該反応路1内にて、前記流体から所定の生成物を生成せしめるための生成物製造装置において、前記反応路1にマイクロ波を照射するためのマイクロ波発生器3を具備することを特徴とする生成物製造装置。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
流体を流路を経由して、反応路に流通させ、該反応路内にて、前記流体から所定の生成物を生成せしめるための生成物製造装置において、前記反応路にマイクロ波を照射するためのマイクロ波発生器を具備することを特徴とする生成物製造装置。
IPC (2件)：
C09K 11/08 ,  B01J 19/12
FI (2件)：
C09K11/08 A ,  B01J19/12 H
Fターム (13件)：
4G075AA27 ,  4G075AA63 ,  4G075BA10 ,  4G075BD07 ,  4G075CA02 ,  4G075CA03 ,  4G075CA26 ,  4G075DA02 ,  4G075EB25 ,  4G075EB31 ,  4G075FB06 ,  4H001CA01 ,  4H001CA02
引用特許：
出願人引用 (3件)

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