ポジ型レジスト組成物及びパターニング方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者： , , , ,
代理人 (1件)：三枝英二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-396890
公開番号（公開出願番号）：特開2002-196494
出願日： 2000年12月27日
公開日（公表日）： 2002年07月12日
要約：

【要約】【課題】感度、ドライエッチング耐性、耐熱性等に優れており、しかも露光量に応じて加工深さが異なるアナログ的な性質を有するポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターニング方法を提供すること。【解決手段】(A)アルコキシシラン基含有ビニル系共重合体、及び(C)硬化触媒を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物(I)、(A)アルコキシシラン基含有ビニル系共重合体、(B)加水分解性アルコキシシラン又はその低縮合物、及び(C)硬化触媒を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物(II)、並びに、上記(I)又は(II)のポジ型レジスト組成物を用いたパターニング方法。

請求項（抜粋）：

(A)アルコキシシラン基含有ビニル系共重合体、及び(C)硬化触媒を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/039 501 , C08F230/08 , C08K 3/00 , C08K 5/00 , C08L 43/04 , G03F 7/075 511

FI (6件)：

G03F 7/039 501 , C08F230/08 , C08K 3/00 , C08K 5/00 , C08L 43/04 , G03F 7/075 511

Fターム (62件)：

2H025AA01 , 2H025AA09 , 2H025AA10 , 2H025AA14 , 2H025AB14 , 2H025AB16 , 2H025AB20 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BF02 , 2H025BF04 , 2H025BF08 , 2H025BF14 , 2H025BF29 , 2H025BF30 , 2H025BG00 , 2H025BJ10 , 2H025CB34 , 2H025CC17 , 2H025CC20 , 4J002BC071 , 4J002BC081 , 4J002BC091 , 4J002BG041 , 4J002BG051 , 4J002BG071 , 4J002BG081 , 4J002BG101 , 4J002BQ001 , 4J002DD016 , 4J002DE056 , 4J002DF006 , 4J002DG046 , 4J002DH026 , 4J002EB116 , 4J002EF036 , 4J002EN026 , 4J002EN106 , 4J002EN136 , 4J002EV236 , 4J002EV296 , 4J002FD206 , 4J002GP03 , 4J100AB02P , 4J100AB03P , 4J100AL03P , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL11P , 4J100AL69P , 4J100AL71P , 4J100AM02P , 4J100AM05P , 4J100BA77Q , 4J100BA93P , 4J100BB18P , 4J100BC04P , 4J100BC43P , 4J100CA04 , 4J100JA37

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