特許
J-GLOBAL ID:200903029109844008

球状遷移金属錯体およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大石 治仁
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-196438
公開番号(公開出願番号):特開2007-015947
出願日: 2005年07月05日
公開日(公表日): 2007年01月25日
要約:
【課題】 n1個(n1は6〜60の整数を表す。)の遷移金属原子と、2n1個の、置換基を有する二座有機配位子とから形成されてなる中空の殻を有する遷移金属錯体であって、前記置換基が前記中空の殻内部に配向するように形成されている球状遷移金属錯体、およびその製造方法を提供する。【解決手段】 中空の殻を有する球状遷移金属錯体であって、前記中空の殻が、n1個(n1は、6〜60の整数を表す。)の遷移金属原子と、2n1個の、置換基を有する二座有機配位子とから形成されてなり、かつ、前記置換基が前記中空の殻内部に配向するように形成されていることを特徴とする球状遷移金属錯体、および遷移金属化合物と置換基を有する二座有機配位子とを、遷移金属化合物1モルに対し、二座有機配位子を1〜5モルの割合で反応させることを特徴とする本発明の球状遷移金属錯体の製造方法。【選択図】 なし。
請求項(抜粋):
中空の殻を有する球状遷移金属錯体であって、前記中空の殻が、n1個(n1は、6〜60の整数を表す。)の遷移金属原子と、2n1個の、置換基を有する二座有機配位子とから形成されてなり、かつ、前記置換基が前記中空の殻内部に配向するように形成されていることを特徴とする球状遷移金属錯体。
IPC (2件):
C07D 213/53 ,  C07F 15/00
FI (2件):
C07D213/53 ,  C07F15/00 C
Fターム (17件):
4C055AA01 ,  4C055BA01 ,  4C055CA01 ,  4C055DA08 ,  4C055DA16 ,  4C055DA27 ,  4C055DB02 ,  4C055DB08 ,  4C055EA01 ,  4C055GA02 ,  4H050AA01 ,  4H050AA02 ,  4H050BB21 ,  4H050BB22 ,  4H050BC31 ,  4H050WB14 ,  4H050WB22
引用特許:
審査官引用 (3件)
引用文献:
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