特許
J-GLOBAL ID:200903029118589827
高精密転写性ポリカーボネート樹脂光学用成形材料、およびそれより形成された光ディスク基板
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
大島 正孝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-232586
公開番号(公開出願番号):特開2002-047406
出願日: 2000年08月01日
公開日(公表日): 2002年02月12日
要約:
【要約】【課題】 熱安定性に優れ、かつ高精密転写性を有するポリカーボネート樹脂光学用成形材料およびそれからの光ディスク基板を提供する。【解決手段】 2,2-ビス-(4-ヒドロキシフェニル)プロパンを二価フェノール成分として得られた芳香族ポリカーボネート樹脂(PC-A)60〜99重量%と下記式(1)【化1】(但し、式中R1〜R4は、それぞれ独立して水素原子または炭素原子数1〜4の炭化水素基を示す)で表される化合物を二価フェノール成分として得られた芳香族ポリカーボネート樹脂(PC-M)1〜40重量%とを含有してなる混合樹脂組成物からなることを特徴とする高精密転写性ポリカーボネート樹脂光学用成形材料。
請求項(抜粋):
2,2-ビス-(4-ヒドロキシフェニル)プロパンを二価フェノール成分として得られた芳香族ポリカーボネート樹脂(PC-A)60〜99重量%と下記式[I]【化1】(但し、式中R1〜R4は、それぞれ独立して水素原子または炭素原子数1〜4の炭化水素基を示す)で表される化合物を二価フェノール成分として得られた芳香族ポリカーボネート樹脂(PC-M)1〜40重量%とを含有してなる混合樹脂組成物からなることを特徴とする高精密転写性ポリカーボネート樹脂光学用成形材料。
IPC (6件):
C08L 69/00
, C08G 64/06
, C08J 5/00 CFD
, G11B 7/24 526
, G11B 7/24 561
, G11B 7/24 563
FI (6件):
C08L 69/00
, C08G 64/06
, C08J 5/00 CFD
, G11B 7/24 526 G
, G11B 7/24 561 M
, G11B 7/24 563 C
Fターム (32件):
4F071AA50
, 4F071AA81
, 4F071AH19
, 4F071BA01
, 4F071BB05
, 4F071BC03
, 4J002CG011
, 4J002CG012
, 4J002FD070
, 4J002GS02
, 4J029AA09
, 4J029AB07
, 4J029AC01
, 4J029AD01
, 4J029AE05
, 4J029BB16A
, 4J029BB16B
, 4J029HA01
, 4J029HC01
, 4J029HC05A
, 4J029HC09
, 4J029JB042
, 4J029JB122
, 4J029KC01
, 5D029KA07
, 5D029KC13
, 5D029WB11
, 5D029WB17
, 5D029WC01
, 5D029WC04
, 5D029WC05
, 5D029WD01
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