特許

J-GLOBAL ID：200903029128034831

ゴム組成物の製造法

発明者： 寺谷 裕之
出願人/特許権者： 株式会社ブリヂストン
代理人 (1件)： 杉村 暁秀 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-071811
公開番号（公開出願番号）：特開平9-302126
出願日： 1996年03月27日
公開日（公表日）： 1997年11月25日
要約：

【要約】【課題】 氷上性能を向上させる。【解決手段】 天然ゴム、イソプレンゴム、スチレン・ブタジエンゴム、ブタジエンゴム、イソブチレン-イソプレン共重合体よりなる群から選択される少なくとも1種のジエン系ポリマーをゴム成分とする配合系内で、JIS-C硬度が75以上であり共役ジエン成分を樹脂成分中10重量%以上含有し前記ゴムと共架橋性を有し融点またはTgが80〜200°Cであり平均粒径が10〜200μmである樹脂または樹脂複合体を融点またはTg未満の温度で混練り分散し、その後、少なくとも発泡剤及び加硫剤を添加し、融点またはTg未満の温度にて前記粒径を保持しつつ更に混練り分散した後、融点またはTgより5°C以上高い温度にて加硫することにより、発泡した気泡の周囲に前記樹脂または樹脂複合体よりなる被覆層を形成することを特徴とするゴム組成物の製造法。

請求項（抜粋）：

天然ゴム、イソプレンゴム、スチレン・ブタジエンゴム、ブタジエンゴム、イソブチレン-イソプレン共重合体よりなる群から選択される少なくとも1種のジエン系ポリマーをゴム成分とする配合系で、JIS-C硬度が75以上であり樹脂成分中10重量%以上の共役ジエン成分を含有し樹脂融点またはガラス転移点(Tg)が80〜200°Cであり平均粒径が10〜200μmである樹脂または樹脂複合体を融点またはTg未満の温度で混練り分散すると共に、あるいは、その後、少なくとも発泡剤及び加硫剤を添加し、融点またはTg未満の温度にて前記粒径を保持しつつ混練り分散した後、融点またはTgより5°C以上高い温度にて加硫することにより、発泡した気泡の周囲に前記樹脂または樹脂複合体よりなる被覆層を形成することを特徴とするゴム組成物の製造法。

IPC (5件)：

C08J 9/06 CEQ ,  B60C 1/00 ,  C08J 3/20 CEQ ,  C08J 3/24 CEQ ,  C08L 21/00 LBB

FI (5件)：

C08J 9/06 CEQ ,  B60C 1/00 A ,  C08J 3/20 CEQ Z ,  C08J 3/24 CEQ Z ,  C08L 21/00 LBB