特許
J-GLOBAL ID：200903029130530544
原料供給装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-310750
公開番号（公開出願番号）：特開平9-148257
出願日： 1995年11月29日
公開日（公表日）： 1997年06月06日
要約：
【要約】【課題】 原料が90°C以上の加熱を必要とする場合であっても使用可能とする。【解決手段】 キャリアガスの流量を制御する流量制御装置(MFC)11は、恒温槽12外にある。MFC11から送られるキャリアガスを予熱する熱交換器13と、液体または固体原料を充填する原料容器14と、熱交換器13で予熱されたキャリアガスを直接または原料容器14内の原料を通して間接に成長室30またはベントライン27まで送る管路15と、管路15に介装した複数のバルブ16〜22とは、加熱・保温手段23で90°C以上に加熱および保温する。MFC11が恒温槽12外にあるので、高温加熱が必要な原料を用いる気相成長法でもこの装置を用いることができる。
請求項（抜粋）：
キャリアガスの流量を制御する流量制御装置と、前記流量制御装置から送られるキャリアガスを予熱する熱交換器と、液体または固体原料を充填する原料容器と、前記熱交換器で予熱されたキャリアガスを直接または前記原料容器内の原料を通して間接に成長室または排気経路まで送る管路と、前記管路に介装した複数のバルブと、前記熱交換器、前記原料容器、前記管路および前記バルブを90°C以上に加熱および保温する加熱・保温手段とを具備したことを特徴とする原料供給装置。
IPC (4件)：
H01L 21/205
, B01J 4/00 102
, C23C 16/44
, H01L 21/285
H01L 21/205
, B01J 4/00 102
, C23C 16/44 C
, H01L 21/285 C
