特許
J-GLOBAL ID:200903029134769649

還元鋳造方法および還元鋳造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 綿貫 隆夫 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-252044
公開番号(公開出願番号):特開2003-053515
出願日: 2001年08月22日
公開日(公表日): 2003年02月26日
要約:
【要約】【課題】 高品質の鋳造品を歩留まりよく生産できる還元鋳造方法を提供する。【解決手段】 金属ガスと反応性ガスとを反応させて成形型12のキャビティ12a内に還元性化合物を生成させ、成形型12を冷却しておいてキャビティ12a内に溶湯を注湯し、還元性化合物により溶湯表面の酸化皮膜を還元して鋳物製品を鋳造する還元鋳造方法において、成形型12を冷却する媒体として液体窒素を用いることを特徴とする。
請求項(抜粋):
金属ガスと反応性ガスとを反応させて成形型のキャビティ内に還元性化合物を生成させ、成形型を冷却しておいてキャビティ内に溶湯を注湯し、還元性化合物により溶湯表面の酸化皮膜を還元して鋳物製品を鋳造する還元鋳造方法において、前記成形型を冷却する媒体として液体窒素を用いることを特徴とする還元鋳造方法。
IPC (3件):
B22D 27/18 ,  B22D 21/04 ,  C22B 9/05
FI (3件):
B22D 27/18 Z ,  B22D 21/04 A ,  C22B 9/05
Fターム (1件):
4K001EA03

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