特許

J-GLOBAL ID：200903029141941899

露光装置およびデバイス製造方法

発明者： 笠井 維志
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-088997
公開番号（公開出願番号）：特開2001-274079
出願日： 2000年03月28日
公開日（公表日）： 2001年10月05日
要約：

【要約】【課題】 ジョブの切替えや特殊シーケンスの使用を必要とすることなく、基板ごとに異なる条件で露光処理が行えるようにする。【解決手段】 一定のパラメータ群に基づき、複数の基板に対して露光処理を行う露光装置において、前記パラメータ群のうちの所定のパラメータについては、各基板(ウエハ番号1、2)に応じて異なる複数の値811、812が設定されており、各基板に応じた設定値(露光量1000、1500)を用いて各基板の露光処理を行うことを特徴とする露光装置。

請求項（抜粋）：

一定のパラメータ群に基づき、複数の基板に対して露光処理を行う露光装置において、前記パラメータ群のうちの所定のパラメータについては、各基板に応じて異なる複数の値が設定されており、各基板に応じた設定値を用いて各基板の露光処理を行うことを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 Z

Fターム (7件)：

5F046AA28 ,  5F046BA03 ,  5F046CB05 ,  5F046CB23 ,  5F046DA02 ,  5F046DA11 ,  5F046DD06