特許
J-GLOBAL ID：200903029151742304
X線発生装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 祐介
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-190032
公開番号（公開出願番号）：特開平10-022093
出願日： 1996年06月30日
公開日（公表日）： 1998年01月23日
要約：
【要約】【課題】 X線管のアノード蓄積熱量に影響されずにつねに設定したX線条件通りのX線曝射を行なう。【解決手段】 制御器16において管電圧と管電流とが設定されると、それに応じたフィラメント加熱電流値がフィラメント加熱電流制御回路17から出力されるが、制御器16ではその時点までのX線管13の負荷の印加状態からアノード蓄積熱量を計算しており、それに応じて定まる補正量が補正回路18において上記フィラメント加熱電流値に加えられ、その補正後の値に応じてフィラメント加熱電流供給回路14がフィラメント加熱電流をX線管13のフィラメントに供給する。
請求項（抜粋）：
X線管と、該X線管のX線条件を設定する制御器と、該制御器からの指令により上記X線管のアノード・カソード間に加える管電圧を出力する高電圧供給回路と、上記制御器からの指令に基づき設定X線条件に応じたフィラメント加熱電流値を出力するフィラメント加熱電流制御回路と、アノード蓄積熱量を求める装置と、該アノード蓄積熱量に応じて上記のフィラメント加熱電流値を補正する補正回路と、該補正後のフィラメント加熱電流値に応じた電流を上記X線管のフィラメントに供給するフィラメント加熱電流供給回路とを有することを特徴とするX線発生装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H05G 1/34 C
, H05G 1/26 G
