特許
J-GLOBAL ID：200903029154364955

向流再生式イオン交換装置

発明者：
寺山 弘晃

寺山 弘晃 について

, 
佐藤 之重

佐藤 之重 について


出願人/特許権者：
日本錬水株式会社

日本錬水株式会社 について


代理人 (1件)： 岡田 数彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-277495
公開番号（公開出願番号）：特開2003-080086
出願日： 2001年09月13日
公開日（公表日）： 2003年03月18日
要約：
【要約】【課題】良好な処理水質が得られ、再生剤の節約が可能であり、比較的簡単な構造であって、特にシリカの脱着を効率的に行うことが出来る、向流再生式イオン交換装置を提供する。【解決手段】少なくとも強塩基性アニオン交換樹脂が充填されたイオン交換塔(1)から主として構成され、上記のイオン交換樹脂の充填層(2)の上部には当該樹脂の再生時の体積膨張に相当する空間部(3)が設けられ、そして、通水が下降流で行われ且つ再生が上昇流で行われ、しかも、再生剤の供給前に上昇流で圧密用水を供給してイオン交換樹脂を前記空間部に移動させる方式の向流再生式イオン交換装置において、前記のイオン交換塔に供給される再生剤および再生用水の加温手段(蒸気供給バルブ(13))を設け、更に、加温前または加温後の再生剤および再生用水の脱気手段(14)を設ける。
請求項（抜粋）：
少なくとも強塩基性アニオン交換樹脂が充填されたイオン交換塔から主として構成され、上記のイオン交換樹脂の充填層の上部には当該樹脂の再生時の体積膨張に相当する空間部が設けられ、そして、通水が下降流で行われ且つ再生が上昇流で行われ、しかも、再生剤の供給前に上昇流で圧密用水を供給してイオン交換樹脂を前記空間部に移動させる方式の向流再生式イオン交換装置において、前記のイオン交換塔に供給される再生剤および再生用水の加温手段を設け、更に、加温前または加温後の再生剤および再生用水の脱気手段を設けたことを特徴とする向流再生式イオン交換装置。
IPC (2件)：
B01J 49/00 ,  C02F 1/42
FI (3件)：
B01J 49/00 V ,  B01J 49/00 G ,  C02F 1/42 B
Fターム (9件)：
4D025AA03 ,  4D025AB17 ,  4D025BA15 ,  4D025BA22 ,  4D025BB02 ,  4D025BB04 ,  4D025BB07 ,  4D025BB19 ,  4D025DA01
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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