特許
J-GLOBAL ID：200903029160350460
溶射装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤巻 正憲
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-076737
公開番号（公開出願番号）：特開平6-287739
出願日： 1993年04月02日
公開日（公表日）： 1994年10月11日
要約：
【要約】【目的】 緻密な溶射皮膜を得ることができると共に、溶射材料として酸化物を使用した場合の組成変化を回避できる溶射装置を提供する。【構成】 減圧装置により、チャンバー10内は例えば100torrの圧力に維持されるようになっている。また、このチャンバー10内には、空気又は酸素分圧を調整したガスが30乃至200リットル/分の流量で供給される。溶射トーチ1及び被溶射体(基盤)3はこのチャンバー10内に配置される。
請求項（抜粋）：
チャンバーと、このチャンバー内を減圧状態に維持する減圧手段と、このチャンバー内に酸素を供給する酸素供給手段と、前記チャンバー内に配置され溶射材料を溶融又は半溶融状態にして被溶射体に吹き付ける溶射トーチとを有することを特徴とする溶射装置。
引用特許：
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