特許

J-GLOBAL ID：200903029179259854

塗布膜の乾燥方法、塗布膜の形成方法、及び塗布膜形成装置

発明者： 元村 秀峰
出願人/特許権者： HOYA株式会社
代理人 (1件)： 阿仁屋 節雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-307392
公開番号（公開出願番号）：特開2003-112099
出願日： 2001年10月03日
公開日（公表日）： 2003年04月15日
要約：

【要約】【課題】 ダウンフローが構成されたクリーンルーム内において被塗布面が下方を向いた姿勢で保持された基板の被塗布面に形成される塗布膜をムラなく乾燥させる。【解決手段】 基板20を、その被塗布面が下方に面した姿勢で保持する吸着盤19と、この吸着盤19によって保持された基板20の被塗布面に塗布液を塗布する塗布機構22と、を具備する塗布装置に於いて、被塗布面に向かって清浄気体を供給する気流発生装置21を備えた。

請求項（抜粋）：

ダウンフローが構成されたクリーンルーム内において被塗布面が下方を向いた姿勢で保持された基板の前記被塗布面に形成される塗布膜の乾燥方法であって、前記塗布膜を形成した後、当該基板の姿勢を保った状態で、前記ダウンフローが前記被塗布面に回り込むのを抑制しながら前記塗布膜を乾燥させる事を特徴とする塗布膜の乾燥方法。

IPC (6件)：

B05C 5/00 101 ,  B05C 9/14 ,  B05D 1/26 ,  B05D 3/02 ,  G03F 7/16 501 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

B05C 5/00 101 ,  B05C 9/14 ,  B05D 1/26 Z ,  B05D 3/02 Z ,  G03F 7/16 501 ,  H01L 21/30 564 D

Fターム (28件)：

2H025AB14 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025EA04 ,  2H025EA10 ,  4D075AC02 ,  4D075AC73 ,  4D075AC82 ,  4D075AC88 ,  4D075BB24Z ,  4D075BB36Z ,  4D075CA48 ,  4D075DA06 ,  4D075DC22 ,  4D075DC24 ,  4D075EA07 ,  4D075EA45 ,  4F041AA02 ,  4F041AA06 ,  4F041AB02 ,  4F041BA10 ,  4F041CA02 ,  4F041CA12 ,  4F042AA02 ,  4F042DB17 ,  4F042DB39 ,  4F042DF09 ,  5F046JA14

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 塗工装置及びそれを使用した塗工システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-143588   出願人：株式会社ヒラノテクシード