特許

J-GLOBAL ID：200903029179318290

シリルオルガノアミンの製造方法

発明者： ポール チャールズ ディン ,  ピーター イン クワイ ロー
出願人/特許権者： ダウ・コ-ニング・コ-ポレ-ション
代理人 (1件)： 青木 朗 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-239429
公開番号（公開出願番号）：特開平5-194551
出願日： 1992年09月08日
公開日（公表日）： 1993年08月03日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、一酸化パラジウム触媒の存在においてシリルオルガノアミンを接触させることによってビス-及びトリス-アミンを製造するための方法を提供する。【構成】 本法は、(A)式{R2a (R1O)3-aSiR3}n NH3-n で示されるシリルオルガノアミンと粒状の一酸化パラジウムとを、約50°C〜 300°Cの範囲内の温度で接触させる工程、及び(B)式{R2a (R1O)3-aSiR3}y NH3-y で示される生成物のシリルオルガノアミンを単離する工程、を含んで成る。【効果】 本発明は、高圧を必要とすることなく、しかもアンモニア及び塩化物の塩を生成することなく、シリルオルガノアミンを所望のビス-及びトリス-アミンにほぼ定量的に転化する。

請求項（抜粋）：

(A)式{R2a (R1O)3-a SiR3 }n NH3-n で示されるシリルオルガノアミンと粒状の一酸化パラジウムとを、約50°C〜 300°Cの範囲内の温度で接触させる工程、及び(B)式{R2a (R1O)3-aSiR3}y NH3-y で示される生成物のシリルオルガノアミンを単離する工程、を含んで成るシリルオルガノアミンの製造方法において、上式中、各R1 が独立に炭素原子数20個未満のアルキル、アリール、アラルキル及びシクロアルキルより成る群から選択され;各R2 が独立に、R1 、炭素原子数20個未満のアルケニル基、炭素原子数20個未満のフッ化物置換アルキル基及び水素より成る群から選択され;R3 が炭素原子数20個未満の二価の炭化水素基及び炭素原子数20個未満の二価のポリエーテルより成る群から選択され;a=0、1、2または3;n=1または2;そしてy=n+1である、前記製造方法。