特許

J-GLOBAL ID：200903029186107490

H2 15Oの製造装置及びH2 15Oの自動注射装置

発明者： 菅野 巌 ,  村上 松太郎 ,  戸田 陽二郎 ,  菅原 迪
出願人/特許権者： 上村 和夫 ,  株式会社日本製鋼所
代理人 (1件)： 石戸 元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-284579
公開番号（公開出願番号）：特開平5-119197
出願日： 1991年10月30日
公開日（公表日）： 1993年05月18日
要約：

【要約】【目的】 半減期の短いH2 15Oガスを注射液として使用する場合に、安全で、効率の良い注射液の製造装置及び自動注射装置を提供することを目的とする。【構成】 注射液製造装置5と自動注射装置6とからなり、注射液製造装置5にはターゲットボックス内で製造された直後のH2 15Oを吹き込んでバブリングせしめるために生理食塩水を充満した捕集ビン51と、この捕集ビン51内の生理食塩水に含有されたH2 15Oを検出するRIデテクター56を具備し、自動注射装置6には捕集ビン51内で製造された注射液を注射針64に圧送するシリンジ66と、捕集ビン51とシリンジ66間及びシリンジ66と注射針64間に設け、注射液の流れ方向を変更せしめる三方弁61、62、65と、三方弁62と注射針64間に設けた気泡検出器68aとミクロポアフィルター63と、捕集ビン51と三方弁61間に設けた気泡検出器68を具備したものである。

請求項（抜粋）：

H2 15Oの製造装置において、デュートロンビームにより照射されるターゲットボックスと、前記ターゲットボックスに原料ガスとしての水素ガス及び窒素ガスを供給するガス供給装置と、前記ターゲットボックス及び放射性同位元素搬送配管内を真空状態に保持する真空ポンプを設けたことを特徴とすH2 15Oの製造装置。

IPC (4件)：

G21G 1/10 ,  A61K 49/02 ,  C01B 5/00 ,  G21G 4/08