特許

J-GLOBAL ID：200903029201153712

塗布装置

発明者： 岩津 春生 ,  藤本 昭浩
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン九州株式会社
代理人 (1件)： 浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-090249
公開番号（公開出願番号）：特開平5-259060
出願日： 1992年03月16日
公開日（公表日）： 1993年10月08日
要約：

【要約】【目的】 被処理体の裏面の洗浄と外側及び内側容器の洗浄とを同時に行う。【構成】 被処理体2を保持して回転する回転保持手段4と、塗布液L2の飛散を防止する外側容器64A及び内側容器64Bを有する塗布装置において、被処理体の裏面洗浄時には洗浄液放出ノズル72A、72Bから洗浄液Lを放出しつつ制御手段78により回転保持手段4の回転数を変化させる。これにより、被処理体の裏面から飛散された洗浄液は容器64の壁面、すなわち外側容器64A及び内側容器64Bに到達し、これらの壁面を同時に洗浄する。

請求項（抜粋）：

被処理体を保持して回転する回転保持手段と、前記回転保持手段を囲むように設けられて前記被処理体に供給された塗布液の飛散を防止するための容器とを有する塗布装置において、前記回転保持手段に保持された前記被処理体の裏面に向けて洗浄液を放出する洗浄液放出ノズルと、前記被処理体の裏面を洗浄するときに前記回転保持手段の回転速度を変化させるための制御手段とを設け、前記被処理体の裏面に当たった前記洗浄液を前記容器の壁面に向けて飛散させるように構成したことを特徴とする塗布装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/304 341 ,  G03F 7/16 502