特許
J-GLOBAL ID：200903029210026006
ダイヤモンド表面の研磨
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
有賀 三幸 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-503106
公開番号（公開出願番号）：特表2001-509839
出願日： 1995年01月31日
公開日（公表日）： 2001年07月24日
要約：
【要約】表面上の凸部を水平面から約20nmの高さに減少させるためにダイヤモンド表面を平滑化または研磨する方法。ダイヤモンド表面にイオンを注入してダイヤモンド表面の上または表面下に凹凸深さ以下の非ダイヤモンド炭素の損傷層を形成し、その非ダイヤモンド炭素を溶解させるために十分な電解を有する液体中に非ダイヤモンド炭素を浸漬することにより非ダイヤモンド炭素を溶解させる。
請求項（抜粋）：
(a)ダイヤモンド表面および凸部に非ダイヤモンド炭素を形成するために ダイヤモンド表面にイオン注入する工程と、 (b)その非ダイヤモンドを電気化学的エッチングにより除去する工程とを 含むことを特徴とする凸部を有するダイヤモンド表面を平滑にする方 法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C25F 3/00 Z
, C30B 29/04 Z
