特許
J-GLOBAL ID：200903029227294497
ネオペンチルグリコールの連続的製造方法
発明者：
,
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外5名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-519247
公開番号（公開出願番号）：特表2000-505103
出願日： 1997年10月22日
公開日（公表日）： 2000年04月25日
要約：
【要約】イソブチルアルデヒドと、メタノールを0.1ないし15重量%の範囲の量で含有するホルムアルデヒド水溶液とを、第三級アルキルアミン触媒の存在下で反応させる工程と、縮合生成混合物をオクタノールで抽出する工程と、抽出物を蒸留する工程と、蒸留生成物を水素化させる工程と、水素化生成混合物を水で抽出する工程と、抽出物を蒸留する工程とを含む方法によって、98%以上の純度を有するネオペンチルグリコールを連続的に製造する。
請求項（抜粋）：
(a)イソブチルアルデヒドと、メタノールを0.1ないし15重量%の範囲の量で含有するホルムアルデヒド水溶液とを、第三級アルキルアミン触媒の存在下で反応させて、ヒドロキシピバルアルデヒドを含有するアルドール縮合生成混合物を得る工程と、 (b)縮合生成混合物を有機溶媒で抽出して、ヒドロキシピバルアルデヒドを含有する第1有機相混合物および第1水相混合物を得る工程と、 (c)工程(b)で得られた第1有機相混合物を蒸留して、ヒドロキシピバルアルデヒドより低い沸点を有する物質を含有する低沸点化合物混合物および第2有機相混合物を得る工程と、 (d)工程(c)で得られた第2有機相混合物をニッケル触媒の存在下で水素化させて、ネオペンチルグリコールを含有する水素化生成混合物を得る工程と、 (e)水素化生成混合物を水で抽出して、ネオペンチルグリコールを含有する第2水相混合物および第3有機相混合物を得る工程と、 (f)工程(e)で得られた第2水相混合物を共沸蒸留して、ネオペンチルグリコールと水との混合物である蒸留生成物および蒸留塔底生成物を得る工程と、 (g)工程(f)で得られたネオペンチルグリコールと水との混合物を蒸留してネオペンルグリコールを得る工程とを含む、ネオペンチルグリコールの製造方法。
IPC (5件)：
C07C 29/141
, B01J 31/02 102
, C07C 29/82
, C07C 31/20
, C07B 61/00 300
C07C 29/141
, B01J 31/02 102 X
, C07C 29/82
, C07C 31/20 Z
, C07B 61/00 300
