特許
J-GLOBAL ID：200903029230515003

プラズマ処理容器内部材の製造方法、及び当該製造方法により製造されたプラズマ処理容器内部材

発明者：
長山 将之

長山 将之 について

, 
中山 博之

中山 博之 について

, 
三橋 康至

三橋 康至 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 渡部 敏彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-157510
公開番号（公開出願番号）：特開2002-356761
出願日： 2001年05月25日
公開日（公表日）： 2002年12月13日
要約：
【要約】【課題】 本発明の目的は、プラズマ処理容器内部材の基材の表面に対する溶射被膜の密着性を向上させることができるプラズマ処理容器内部材の製造方法、及び当該製造方法により製造されたプラズマ処理容器内部材を提供する。【解決手段】 プラズマ処理容器内に配設されるプラズマ処理容器内部材の基材101の表面に、前処理として、ケプラコート(KEPLA-COAT:登録商標)処理によりケプラコート層111を形成した後、これらの前処理が施された基材101の表面に溶射被膜形成装置を用いてプラズマ溶射処理を施すことにより溶射被膜121を形成する。
請求項（抜粋）：
プラズマエッチング処理により被処理物に微細加工を施すプラズマ処理容器に配設されるプラズマ処理容器内部材の製造方法において、前記プラズマ処理容器内部材の基材の表面に前処理としてプラズマ放電を用いた陽極酸化処理を施した後、溶射被膜を形成することを特徴とするプラズマ処理容器内部材の製造方法。
IPC (6件)：
C23C 4/02 ,  B01J 19/08 ,  C23C 4/10 ,  C23C 26/00 ,  C23C 28/04 ,  H01L 21/3065
FI (6件)：
C23C 4/02 ,  B01J 19/08 H ,  C23C 4/10 ,  C23C 26/00 D ,  C23C 28/04 ,  H01L 21/302 C
Fターム (35件)：
4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075BA06 ,  4G075BA10 ,  4G075BC10 ,  4G075CA15 ,  4G075CA20 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075EB01 ,  4G075FB04 ,  4G075FC20 ,  4K031AA01 ,  4K031AB02 ,  4K031AB09 ,  4K031AB11 ,  4K031BA01 ,  4K031BA03 ,  4K031BA05 ,  4K031CB07 ,  4K031CB42 ,  4K031CB43 ,  4K044AB10 ,  4K044BA12 ,  4K044BA13 ,  4K044BB03 ,  4K044BC02 ,  4K044BC05 ,  4K044CA07 ,  4K044CA11 ,  4K044CA34 ,  5F004BA08 ,  5F004BB22 ,  5F004BB28 ,  5F004BB29
引用特許：
審査官引用 (7件)
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