特許

J-GLOBAL ID：200903029238716695

プラズマ処理装置及び該装置の使用方法

発明者： 南川 康夫 ,  小林 茂樹 ,  森岡 善隆 ,  村上 智美
出願人/特許権者： 住友金属工業株式会社
代理人 (1件)： 井内 龍二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-053448
公開番号（公開出願番号）：特開平5-259090
出願日： 1992年03月12日
公開日（公表日）： 1993年10月08日
要約：

【要約】【目的】 試料23のパーティクルによる汚染を少なくすることができ、装置のクリーニングメンテナンス周期を延ばすことができるプラズマ処理装置を提供すること。【構成】 プラズマ処理室13に試料台16が配設されたプラズマ処理装置において、プラズマ処理室13内に防着板12が配設され、防着板12近傍にランプヒータ18が配設されているプラズマ処理装置。

請求項（抜粋）：

プラズマ処理室に試料台が配設されたプラズマ処理装置において、前記プラズマ処理室内に防着板が配設され、該防着板近傍に加熱源が配設されていることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/31

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭58-209110
  
• 特開平2-039422
  
• 特開平3-183778
  
• 特開平1-152271