特許
J-GLOBAL ID：200903029257393201
フオトマスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
内原 晋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-256121
公開番号（公開出願番号）：特開平5-094003
出願日： 1991年10月03日
公開日（公表日）： 1993年04月16日
要約：
【要約】【目的】半導体装置の製造におけるフォトリソグラフィーに使用されるフォトマスクにおいて、ガラス基板上に付着させたクロムパターンの段差をなくすことによって、基板洗浄の際にパターンの端に薄いごみが引っかかるのを防止する。【構成】ガラス基板1のパターン形成面側に段差が生じないように、クロムパターン2をガラス基板1に埋め込んだ構造を有する。
請求項（抜粋）：
半導体装置の製造におけるフォトリソグラフィーに使用されるフォトマスクにおいて、ガラス基板のパターン形成面側に段差が生じないようにパターンを埋め込んだことを特徴とするフォトマスク。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, G03F 7/00 503
, H01L 21/027
