特許
J-GLOBAL ID：200903029265994850
プラズマ蒸着法並びに磁気バケットおよび同心プラズマおよび材料源を備える装置
発明者：
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
浅村 皓 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-599918
公開番号（公開出願番号）：特表2002-537488
出願日： 2000年02月02日
公開日（公表日）： 2002年11月05日
要約：
【要約】導電性金属塗被材料をマグネトロンスパッタリングターゲット(51)から、ターゲット(51)の開口(58)の中央で室壁(32)内の誘電体窓(61)の後ろの真空室(31)外のコイル(65)から高周波エネルギー結合した濃いプラズマによって処理空間内でイオン化してスパッタする。室圧は、1.33〜13.33Paの範囲内にある。この室壁(32)の後ろに永久磁石(23)のアレイ(22)で作った磁気バケット(20)が複数カスプ磁界を作り、このプラズマから室壁(32)へ動く荷電粒子を跳ね返し、プラズマ閉込めを増強し、並びにこのプラズマの濃度および均一性、並びにこの塗被材料のイオン化率を向上する。
請求項（抜粋）：
イオン化物理蒸着装置であって: IPVDを行うに適した真空圧に維持される処理空間とこの処理空間を通る軸と、内面でこの処理空間とこの軸を囲む室壁を有する真空室; 一般的にこの室の一端でこの軸上に中心を置き、この処理空間へ塗被材料を供給する塗被材料源; 一般的にこの処理空間のこの塗被材料源と反対の端でこの軸上に中心を置く、この室の内部の基板支持体; 高周波エネルギー源; 一般的にこの塗被材料源に隣接するこの室の端でこの軸上に中心を置き、およびこの処理空間内にこの塗被材料源からこの処理空間を通過する塗被材料をイオン化するに十分に濃いプラズマを作るためにエネルギーをリアクタンス結合するように機能する、この高周波エネルギー源に接続した高周波結合要素;並びに 一般的にこの軸上に中心を置き、この軸およびこの処理空間を囲む磁気バケットで、この軸上に中心を置き且つこの室をこの壁の内面の後ろおよびこの処理空間の外側で囲む、軸方向に離間した永久環状リング磁石のアレイを含み、こららの磁石が各々半径方向に向いた極軸を有し、このアレイの磁石が、このプラズマからこの壁に近付く荷電粒子を跳ね返すように、この壁の内面の内側に近くこの室の周りに広がる複数の軸方向に離間した環状カスプの磁界を作るために、極性が交互して密な間隔に配列してある磁気バケットを含む装置。
Fターム (4件)：
4K029CA13
, 4K029DC35
, 4K029DC43
, 4K029EA03
