特許
J-GLOBAL ID:200903029268716223
レーザー彫刻用材料およびレーザー彫刻用印刷版原版
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-279347
公開番号(公開出願番号):特開2007-090541
出願日: 2005年09月27日
公開日(公表日): 2007年04月12日
要約:
【課題】彫刻速度の速い(彫刻感度の高い)レーザー彫刻用材料を提供すること。 【解決手段】主鎖および/または側鎖に酸で分解する官能基を有する化合物、および酸発生剤を含有することを特徴とするレーザー彫刻用材料。【選択図】なし
請求項(抜粋):
主鎖および/または側鎖に酸で分解する官能基を有する化合物、および酸発生剤を含有することを特徴とするレーザー彫刻用材料。
IPC (3件):
B41N 1/12
, G03F 7/00
, G03F 7/36
FI (3件):
B41N1/12
, G03F7/00 502
, G03F7/36
Fターム (12件):
2H096AA02
, 2H096BA11
, 2H096EA04
, 2H096EA23
, 2H114AA00
, 2H114BA01
, 2H114EA03
, 4E068AB01
, 4E068CA04
, 4E068DA14
, 4E068DB07
, 4E068DB10
引用特許:
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