特許
J-GLOBAL ID:200903029298103552

液晶セル内気泡のガス分析装置および該ガス分析装置を使用した液晶セル内気泡のガス分析方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 友松 英爾 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-104607
公開番号(公開出願番号):特開2000-292762
出願日: 1999年04月12日
公開日(公表日): 2000年10月20日
要約:
【要約】【課題】 密閉セル、特に液晶セル内気泡のガス分析装置、および該分析装置を使用したガス分析方法を改良すること。【解決手段】 液晶セル1内に発生した気泡を含む液晶セルの局部だけを密閉できる密閉空間2、該密閉空間2内においてその密閉状態で前記の気泡を維持したまま破壊できる破壊手段5、および該破壊された該気泡のガス分析手段11を少なくとも有するものであることを特徴とする液晶セル内気泡のガス分析装置および該ガス分析装置を使用した液晶セル内気泡のガス分析方法。
請求項(抜粋):
液晶セル内に発生した気泡を含む液晶セルの局部だけを密閉できる密閉空間、該密閉空間内においてその密閉状態を維持したまま気泡を破壊できる破壊手段、および該破壊された該気泡のガス分析手段を少なくとも有するものであることを特徴とする液晶セル内気泡のガス分析装置。
IPC (3件):
G02F 1/13 101 ,  G01N 1/00 101 ,  G01N 27/62
FI (4件):
G02F 1/13 101 ,  G01N 1/00 101 R ,  G01N 27/62 F ,  G01N 27/62 V
Fターム (4件):
2H088FA11 ,  2H088FA29 ,  2H088FA30 ,  2H088MA20

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