特許
J-GLOBAL ID：200903029315418759
露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
立石 篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-110279
公開番号（公開出願番号）：特開平9-275071
出願日： 1996年04月05日
公開日（公表日）： 1997年10月21日
要約：
【要約】【課題】 プロセス等の影響を受けない高精度の合せ面設定が可能な露光装置を提供する。【解決手段】 ウエハWの露光処理開始前に、コンピュータ80、ステージコントローラ70によりウエハWの傾斜量(この傾斜量は、例えば駆動系30の制御量から算出される)の変化量とレベリング検出系の検出量の変化量との相対関係が、少なくとも1つの任意のショット領域について計測される。そして、ウエハWの露光に際してのアライメント時に、制御手段(70、80)ではフォーカス検出系の検出結果と、レベリング検出系の検出結果及び上記の相対関係の計測結果とに基づいてウエハWが投影光学系PLの像面に一致するように駆動系30を制御する。
請求項（抜粋）：
マスクのパターンを投影光学系を介して感光基板上に転写する露光装置であって、前記感光基板が搭載される基板テーブルと;この基板テーブルを前記投影光学系の光軸方向及び傾斜方向に駆動する駆動系と;前記基板テーブル及び前記駆動系の少なくとも一部が搭載され、前記光軸直交面内で2次元移動するステージと;前記投影光学系の光軸に対し所定角度傾斜した方向から前記感光基板上に平行光束を投射し、前記感光基板からの反射光束を受光し、その受光面上での反射光束の結像位置に基づいて前記感光基板表面の傾斜を検出するレベリング検出系と;前記感光基板表面の前記投影光学系の光軸方向の位置を検出する焦点検出系と;前記感光基板の傾斜量の変化量と前記レベリング検出系の検出量の変化量との相対関係を、少なくとも1つの任意のショット領域について前記感光基板の露光処理開始前に計測する計測手段と;前記感光基板の露光に際してのアライメント時に、前記焦点検出系の検出結果と、前記レベリング検出系の検出結果及び前記計測手段の計測結果とに基づいて前記感光基板表面が前記投影光学系の像面に一致するように前記駆動系を制御する制御手段とを有する露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 526 A
, G03F 7/20 521
