特許
J-GLOBAL ID：200903029315687342
Ti-Ni形状記憶合金薄膜の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
山田 明信
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-230368
公開番号（公開出願番号）：特開平7-090624
出願日： 1993年09月16日
公開日（公表日）： 1995年04月04日
要約：
【要約】【目的】 金属基体上にTi-Ni合金薄膜を作成し、金属基体からTi-Ni形状記憶合金薄膜の形状記憶特性を損なうことなく薄膜を分離するTi-Ni形状記憶合金薄膜を製造する。【構成】 銅などの金属基体上に成膜されたTi-Ni合金薄膜を、酸性溶液に浸漬し、金属基体を溶解除去した後、熱処理を施す。
請求項（抜粋）：
金属基体上に成膜されたTi-Ni合金薄膜を酸性溶液に浸漬し、前記金属基体を溶解除去した後、熱処理を施すことを特徴とするTi-Ni形状記憶合金薄膜の製造方法。
IPC (4件)：
C23F 1/00 103
, C22C 1/00
, C22C 19/03
, C23C 14/58
