特許

J-GLOBAL ID：200903029361996759

オーステナイト系ステンレス鋼の化学研磨浴

発明者： 山本 良成 ,  赤司 澄夫 ,  林 信次
出願人/特許権者： 三新化学工業株式会社 ,  株式会社横浜ネプロス
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-311262
公開番号（公開出願番号）：特開平6-136577
出願日： 1992年10月26日
公開日（公表日）： 1994年05月17日
要約：

【要約】【構成】塩酸と硝酸の混合酸に、特定の有機硫黄化合物の2種以上、ポリアルキレングリコール類、界面活性剤、さらに必要であればアルコール類及びエーテル類を混合してなるオーステナイト系ステンレス鋼の化学研磨浴。【効果】この化学研磨浴によれば、すべてのオーステナイト系ステンレス鋼の表面に対して良好な光沢性と平滑性を与える。

請求項（抜粋）：

塩酸0.7〜14.0重量%、硝酸0.5〜10.0重量%を基本成分とする無機酸混合水溶液に(A)次の(a-1)〜(a-5)から成る有機硫黄化合物から任意に選ばれた2種以上の混合物を0.03〜3.0重量%、(a-1)化1で表わされるスルホニウム化合物、【化1】(ただし、R1は水素原子、メチル基、アセチル基、メトキシカルボニル基のいずれかを、R2,R3は独立して水素原子、ハロゲン、C1〜C4のアルキル基のいずれかを、R4,R5はそれぞれ独立してC1〜C4のアルキル基またはベンジル基を示す。Xはハロゲンまたはメチル硫酸を示す。)(a-2)化2で表わされるチアゾール化合物、【化2】(ただし、R6は水素原子、ハロゲン、C1〜C4アルキル基のいずれかを、R7は水素原子またはメルカプト基または-S-NR8R9で表わされる。ここで、R8,R9は独立して水素原子またはC1〜C4のアルキル基、または5員〜7員の脂環式の基であるか、もしくは隣接窒素原子とともに複素環式基を形成してもよい。)(a-3)化3で表わされるジチオカルバミン酸化合物、【化3】(ただし、R10,R11は独立して水素原子またはC1〜C4のアルキル基、フェニル基、ナフチル基、シクロヘキシル基であるか、R10,R11は隣接窒素原子とともに複素環式基を形成してもよい。Meは金属を表わし、nは金属の価数を示す。)(a-4)化4で表わされるチウラム化合物、【化4】(ただし、R12〜R15はそれぞれ独立して水素原子またはC1〜C4のアルキル基、または5員〜7員の脂環式の基であるか、隣接窒素原子とともに複素環式基を形成してもよい。ただし、R12〜R15がすべて水素原子であることはない。nは1〜2の整数を示す。)(a-5)2-メルカプトチアゾリン(B)ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール及びポリビニルアルコールから選ばれた水溶性高分子化合物の1種または2種以上を0.1〜10.0重量%(C)カチオン系またはノニオン系から選ばれた界面活性剤の1種または2種以上を0.01〜2.0重量%、を含有せしめてなるオーステナイト系ステンレス鋼の化学研磨浴