特許
J-GLOBAL ID：200903029363156715
エマルジョンマスク等の欠陥修正方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡邊 敏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-221725
公開番号（公開出願番号）：特開平11-125895
出願日： 1989年06月06日
公開日（公表日）： 1999年05月11日
要約：
【要約】【目的】 エマルジョンマスク等の欠陥部の修正において、ハードマスクで用いられるコーター、蒸着、あるいはスパッタリング等の一連の設備を大型化することなく、簡易な方法によって高精度の白欠陥の修正を行うにある。【構成】 エマルジョンマスク等の欠陥部の修正方法において、エマルジョンマスク等のエマルジョン層に焼付けられた画像等におけるピンホール、欠損等の白欠陥の欠陥部に対し、欠陥部を含めた周辺に、除去可能な合成樹脂の付着防止層として、弱粘着性フィルムを貼り付け、この欠陥部に合わせて紫外線レーザビームを照射し、これによって欠陥部と共に付着防止層を除去し、この除去した部分の欠陥部に遮光性物質を塗布した後、この欠陥部の遮光物質を残して付着防止層を剥離除去する。
請求項（抜粋）：
エマルジョンマスク等のエマルジョン層に焼付けられた画像等におけるピンホール、欠損等の白欠陥の欠陥部に対し、欠陥部を含めた周辺に、除去可能な合成樹脂の付着防止層として、弱粘着性フィルムを貼り付け、この欠陥部に合わせて紫外線レーザビームを照射し、これにより欠陥部と共に付着防止層を除去し、この除去した部分の欠陥部に遮光性物質を塗布した後、この欠陥部の遮光性物質を残して付着防止層を剥離除去することにより、エマルジョン層の白欠陥を修正することを特徴とするエマルジョンマスク等の欠陥修正方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 W
, H01L 21/30 502 W
