特許

J-GLOBAL ID：200903029368470469

静電チャックおよびその表面処理方法

発明者： 佐藤 勝美
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 中島 洋治 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-033653
公開番号（公開出願番号）：特開平7-245336
出願日： 1994年03月03日
公開日（公表日）： 1995年09月19日
要約：

【要約】【目的】 静電チャックおよびその表面処理方法に関し,密着性を低下させずにウェハ吸着時のキズを減らすと共にゴミの発生を低減させる。【構成】 半導体ウェハが載置される載置体の内部に電極が設けられ,該電極に直流電圧を印加することにより分極した静電気によって半導体ウェハを載置体に吸着する静電チャックであって,表面にプラズマ照射が施されている。

請求項（抜粋）：

半導体ウェハが載置される載置体の内部に電極が設けられ,該電極に直流電圧を印加することにより分極した静電気によって半導体ウェハを載置体に吸着する静電チャックであって,表面にプラズマ照射が施されていることを特徴とする静電チャック。

IPC (7件)：

H01L 21/68 ,  B23Q 3/15 ,  H01J 37/317 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/265 ,  H01L 21/3065 ,  H02N 13/00

FI (3件)：

H01L 21/265 D ,  H01L 21/302 F ,  H01L 21/302 C