特許

J-GLOBAL ID：200903029374930447

投影光学系の収差測定方法とフォーカス測定方法及びテスト用マスク

発明者： 佐藤 隆
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (6件)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-092538
公開番号（公開出願番号）：特開2005-277353
出願日： 2004年03月26日
公開日（公表日）： 2005年10月06日
要約：

【課題】 パターンを使い分けなくとも収差の偶関数成分と奇関数成分を測定でき、更に光軸付近の収差も測定できる。【解決手段】 露光用マスク上に形成されたパターンの像を、投影光学系を介して基板上に投影露光する露光装置に対し、投影光学系の収差を測定するための収差測定方法であって、入射光に対してプラス1次光とマイナス1次光の回折効率が異なる回折格子パターンが設けられたテスト用マスクを投影光学系13により基板14上に投影露光し、且つ該テスト用マスクにおけるプラス2次及びマイナス2次の回折光が投影光学系13に入射しないように、遮蔽機構15によりテスト用マスクからの光を一部遮蔽し、テスト用マスクの投影露光により基板14上に形成された回折格子のパターン位置を測定し、パターン位置の測定結果から投影光学系13の収差を求める。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

露光用マスク上に形成されたパターンの像を、投影光学系を介して基板上に投影露光する露光装置に対し、投影光学系の収差を測定するための収差測定方法であって、 入射光に対してプラス1次光とマイナス1次光の回折効率が異なる回折格子パターンが設けられたテスト用マスクを前記投影光学系により基板上に投影露光し、且つ該テスト用マスクにおけるプラス2次及びマイナス2次の回折光が前記投影光学系に入射しないように前記テスト用マスクからの光を一部遮蔽する工程と、 前記テスト用マスクの投影露光により前記基板上に形成された回折格子のパターン位置を測定する工程と、 前記パターン位置の測定結果から前記投影光学系の収差を求める工程と、 を含むことを特徴とする投影光学系の収差測定方法。

IPC (4件)：

H01L21/027 ,  G01B11/00 ,  G01M11/02 ,  G03F7/207

FI (4件)：

H01L21/30 526A ,  G01B11/00 B ,  G01M11/02 B ,  G03F7/207 H

Fターム (12件)：

2F065AA03 ,  2F065AA06 ,  2F065BB02 ,  2F065CC18 ,  2F065LL28 ,  2F065LL42 ,  2F065RR08 ,  2G086HH01 ,  2G086HH06 ,  5F046CB25 ,  5F046DA13 ,  5F046DB05

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特許第3297423号公報