特許
J-GLOBAL ID:200903029375358909

共重合体

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 金田 暢之 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-322533
公開番号(公開出願番号):特開2003-122014
出願日: 2001年10月19日
公開日(公表日): 2003年04月25日
要約:
【要約】【課題】 193nmにおける透明性と高いドライエッチング耐性を有する上に、有機溶媒に対する溶解性、特には、半導体素子の製造工程で使用されるリンス用シンナーに対する溶解性にも優れた、ArFエキシマレーザーリソグラフィー用レジスト樹脂として、より適する新規な共重合体の提供。【解決手段】 三種の単量体をラジカル重合して得られる三元系共重合体で、第1の単量体として脂環式骨格を有する単量体、第2の単量体としてラクトン骨格を有する単量体、第3の単量体として、水/オクタノール分配係数が1以下であり、また、その単重合体とした際、該単重合体が示すポリマーTgが30°C以下である、ビニル系単量体を用いる共重合体である。
請求項(抜粋):
三種の単量体をラジカル重合して得られる三元系共重合体であって、前記三種の単量体は、ラジカル重合に供せられる炭素-炭素二重結合を有する原子団と、更に脂環式骨格を該重合に係わらない原子団として有してなる第1の単量体と、ラジカル重合に供せられる炭素-炭素二重結合を有する原子団と、更にラクトン骨格を該重合に係わらない原子団として有してなる第2の単量体と、ラジカル重合に供せられる炭素-炭素二重結合を有する原子団に加えて、更に鎖式炭素骨格を該重合に係わらない原子団として有してもよい第3の単量体であり、前記第3の単量体として、水/オクタノール分配係数が1以下で、少なくとも0以上であり、また、その単重合体とした際、該単重合体が示すポリマーTgが30°C以下、-100°C以上であり、前記第3の単量体が、前記第1の単量体と前記第2の単量体の合計100モル当たり3〜30モルである、ビニル系単量体を用いてなることを特徴とする共重合体。
IPC (3件):
G03F 7/039 601 ,  C08F220/10 ,  H01L 21/027
FI (3件):
G03F 7/039 601 ,  C08F220/10 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (30件):
2H025AA00 ,  2H025AA01 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CB52 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA03R ,  4J100BA05R ,  4J100BA11Q ,  4J100BC04P ,  4J100BC09P ,  4J100BC12P ,  4J100BC53Q ,  4J100CA05 ,  4J100DA04 ,  4J100FA19 ,  4J100JA38

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