特許
J-GLOBAL ID：200903029397269853
カラーフィルタ着色パターン現像処理方法及び現像処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-081431
公開番号（公開出願番号）：特開平7-287111
出願日： 1994年04月20日
公開日（公表日）： 1995年10月31日
要約：
【要約】【目的】精細な着色パターンを形成するためのカラーフィルタの着色パターン現像方法及び装置であって、過現像によるパターン剥離が生じないように現像時間に対する許容幅を、比較的広く設定して現像処理できるようにするとともに、現像残渣の発生し難い良好な現像処理を行なうことにある。【構成】顔料分散型フォトレジスト2を塗布してパターン露光したフィルタ基板1を、第1現像槽18内の現像液a中に浸漬してディッピング現像処理し、続いて、第2現像槽28内にて現像液aをスプレーして第2現像処理し、その後、リンス若しくは水bをスプレーして水洗処理することによって、フィルタ基板1上に、カラーフィルタの着色パターン2aを形成する。
請求項（抜粋）：
顔料分散型フォトレジスト2を塗布してパターン露光したフィルタ基板1を、ディッピング現像液a内に浸漬して第1現像処理し、続いて、現像液aをスプレーして第2現像処理し、その後、リンス若しくは水bをスプレーして水洗処理することによって、フィルタ基板1上に、カラーフィルタの着色パターン2aを形成することを特徴とするカラーフィルタ着色パターン現像処理方法。
IPC (4件)：
G02B 5/20 101
, G03F 7/30
, G03F 7/30 501
, G03F 7/38 511
