特許
J-GLOBAL ID：200903029413504612
三次元構造体およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-262328
公開番号（公開出願番号）：特開2001-083347
出願日： 1999年09月16日
公開日（公表日）： 2001年03月30日
要約：
【要約】【課題】 屈折率が充分に異なる2つの領域を有するフォトニック結晶を提供する。【解決手段】 三次元的に連続な貫通孔を有する多孔質体と、前記多孔質体中に形成され、物質が充填された複数の領域とを具備する三次元構造体である。前記物質が充填された複数の領域は、フォトニック・バンドを形成するように、平均0.1〜2μmの周期で配列された部分を有することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
三次元的に連続な貫通孔を有する多孔質体と、前記多孔質体中に形成され、物質が充填された複数の領域とを具備し、前記物質が充填された複数の領域はフォトニック・バンドを形成するように、平均0.1〜2μmの周期で配列された部分を有することを特徴とする三次元構造体。
Fターム (3件)：
2H047KB08
, 2H047QA05
, 2H047TA00
