特許

J-GLOBAL ID：200903029427959957

高効率交流マグネトロンスパッタリング装置

発明者： 原納 猛 ,  高木 悟 ,  鈴木 巧一
出願人/特許権者： 旭硝子株式会社
代理人 (1件)： 泉名 謙治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-197730
公開番号（公開出願番号）：特開平6-017247
出願日： 1992年07月01日
公開日（公表日）： 1994年01月25日
要約：

【要約】【構成】一対の円筒状回転カソード4と、これらの間に交流電圧を供給できる交流電源6とを有し、導入部1からカソードと基体9間にマイクロ波を導入し、ECRプラズマを発生させつつ成膜を行うマグネトロンスパッタリング装置。【効果】高性能の膜を高速で成膜できる。

請求項（抜粋）：

真空装置内で薄膜を基体上に形成するマグネトロンスパッタリング装置において、円筒状のカソードであって、その回転中心軸のまわりに回転できる一対のカソードと、これらのカソードとカソードの間にスパッタリングのための交流電力を供給できる交流電源と、カソード表面、あるいはカソードと基体間にマイクロ波を導入するためのマイクロ波導入部と、マイクロ波源とを有し、ECRプラズマを発生させつつ成膜を行うことが可能な高効率交流マグネトロンスパッタリング装置。