プラズマ発生方法及びプラズマ発生装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：前田弘 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-321969
公開番号（公開出願番号）：特開2000-150478
出願日： 1998年11月12日
公開日（公表日）： 2000年05月30日
要約：

【要約】【課題】真空チャンバー内に反応性ガスを供給すると共に高周波電源からインピーダンス整合器を介して真空チャンバー内に高周波電力を間欠的に繰り返し供給することにより、真空チャンバー内にプラズマを発生させる場合において、発生するプラズマの電子密度を安定させる。【解決手段】反応性ガスが導入される真空チャンバー10と、真空チャンバー10に高周波電力をインピーダンス整合器31を介して間欠的に繰り返し供給する高周波電力供給手段40とを備えている。高周波電力供給手段40は、高周波電力を出力する高周波電源41と、高周波電源41から出力される高周波電力の出力値及びインピーダンス整合器31からの反射電力の値を検出する検出部42と、高周波電源41から高周波電力が出力されるオン期間における高周波電力の供給が開始されてから所定時間が経過した後に、高周波電源41から出力される高周波電力の出力値を制御する制御部43とを有している。

請求項（抜粋）：

真空チャンバー内に反応性ガスを供給すると共に高周波電源からインピーダンス整合器を介して前記真空チャンバー内に高周波電力を間欠的に繰り返し供給することにより、前記真空チャンバー内に前記反応性ガスからなるプラズマを発生させるプラズマ発生方法であって、前記高周波電源から高周波電力を供給する工程は、前記高周波電源から高周波電力が出力されるオン期間においては、高周波電力の出力がオンになってから所定時間が経過した後に出力される高周波電力の電力値に関する情報に基づいて、前記高周波電源から出力される高周波電力の出力値を制御する工程を含むことを特徴とするプラズマ発生方法。

IPC (4件)：

H01L 21/3065 , C23C 16/505 , C23F 4/00 , H05H 1/46

FI (4件)：

H01L 21/302 B , C23C 16/50 B , C23F 4/00 A , H05H 1/46 L

Fターム (33件)：

4K030FA03 , 4K030JA01 , 4K030JA11 , 4K030JA16 , 4K030JA18 , 4K030KA15 , 4K030KA41 , 4K057DA02 , 4K057DA20 , 4K057DB06 , 4K057DD05 , 4K057DE01 , 4K057DE11 , 4K057DE14 , 4K057DG20 , 4K057DM16 , 4K057DM18 , 4K057DM20 , 4K057DM33 , 4K057DN01 , 5F004AA01 , 5F004AA06 , 5F004AA16 , 5F004BB11 , 5F004BB13 , 5F004BB18 , 5F004CA03 , 5F004CA09 , 5F004DA00 , 5F004DA04 , 5F004DA23 , 5F004DB02 , 5F004EB02

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