特許

J-GLOBAL ID：200903029446013037

有機エレクトロルミネセンス表示装置の製造方法

発明者： 森本 満
出願人/特許権者： ローム株式会社
代理人 (1件)： 石井 暁夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-103498
公開番号（公開出願番号）：特開2003-297568
出願日： 2002年04月05日
公開日（公表日）： 2003年10月17日
要約：

【要約】【課題】 透明電極11の表面11aに形成した細長いストライプパターンにした多数本の下部電極12、有機エレクトロルミネセンス層13及び細長いストライプパターンにした多数本の上部電極14と、これらを密封するように前記透明基板11の表面に固着したキャップ体15とから成る有機エレクトロルミネセンス表示装置において、前記多数本の上部電極14を、金属膜18に対するレーザ光線の照射にてパターニング加工するに際して、そのパターニング加工を容易に低コストで行う。【解決手段】 前記レーザ光線を、前記キャップ体15にて密封された前記金属膜19に対して、前記透明基板11における裏面11b側から照射する。

請求項（抜粋）：

少なくとも、透明基板の表面に透明体による下部電極の多数本を細長いストライプパターンにして形成する工程と、前記透明基板の表面に有機エレクトロルミネセンス層を前記下部電極に重ねて形成する工程と、この有機エレクトロルミネセンス層に重ねて上部電極用の金属膜を形成する工程と、前記透明基板の表面に前記下部電極、有機エレクトロルミネセンス層及び金属膜の全体を密封するキャップ体を固着する工程とを備え、更に、前記キャップ体を固着する工程の後で、前記上部電極用の金属膜を、前記透明基板における裏面側からの当該金属膜へのレーザ光線の照射にて、細長いストライプパターンの多数本の上部電極にパターニング加工することを特徴とする有機エレクトロルミネセンス表示装置の製造方法。

IPC (4件)：

H05B 33/10 ,  H05B 33/04 ,  H05B 33/14 ,  H05B 33/26

FI (4件)：

H05B 33/10 ,  H05B 33/04 ,  H05B 33/14 A ,  H05B 33/26 Z

Fターム (6件)：

3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007BB01 ,  3K007CC04 ,  3K007DB03 ,  3K007FA00