特許
J-GLOBAL ID：200903029448616839
無電解めっき層形成用シート、無電解めっき層付きシート、感光性シート及び金属パターンの形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
柳川 泰男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-195496
公開番号（公開出願番号）：特開平10-018044
出願日： 1996年07月04日
公開日（公表日）： 1998年01月20日
要約：
【要約】【目的】 転写法を利用する金属パターンの形成方法を改良した新規な金属パターンの形成方法を提供する。【構成】 プラスチックフィルムの表面に設けられた膨潤性の水性樹脂層に金属もしくは金属化合物の微粒子及び酸化スズの微粒子が分散された無電解めっき用下地層が形成されてなる無電解めっき層形成用シート;及び無電解めっき層形成用シートに無電解めっき層及びにフォトレジスト層を形成した感光性シートのフォトレジスト層をパターン状に露光、現像して、無電解めっき層の上にレジストパターンを形成させる工程;レジスト不在領域に電解めっき層を形成する工程;レジストパターンとめっき層とを同時に基板上に転写する工程;そしてプラスチックフィルムを剥がし取る工程を順次行なう金属パターンを形成させる方法。
請求項（抜粋）：
プラスチックフィルムの表面に設けられた膨潤性の水性樹脂に金属もしくは金属化合物の微粒子及び酸化スズの微粒子が分散された無電解めっき用下地層が形成されてなる無電解めっき層形成用シート。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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