特許
J-GLOBAL ID:200903029456163436

光干渉被膜の応力除去機構

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 松本 研一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-249757
公開番号(公開出願番号):特開2002-148432
出願日: 2001年08月21日
公開日(公表日): 2002年05月22日
要約:
【要約】【課題】 多層光干渉被膜の多層化に伴う応力の除去。【解決手段】 赤外線を反射し可視光を透過する光干渉被膜。この被膜は高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層してなる。層の合計数の増加に伴って、高屈折率材料対低屈折率材料の比を増加させる。
請求項(抜粋):
高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層してなり、これらの層の合計数が51を超える、赤外線を反射し可視光を透過する光干渉被膜。
IPC (2件):
G02B 5/28 ,  G02B 5/26
FI (2件):
G02B 5/28 ,  G02B 5/26
Fターム (9件):
2H048FA15 ,  2H048FA16 ,  2H048FA24 ,  2H048GA04 ,  2H048GA12 ,  2H048GA18 ,  2H048GA33 ,  2H048GA36 ,  2H048GA57

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