特許

J-GLOBAL ID：200903029462363803

真空乾燥装置

発明者： 宮川 俊二 ,  中島 泰秀 ,  村上 慎一郎 ,  竹本 潤
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 米田 潤三 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-155975
公開番号（公開出願番号）：特開平9-320949
出願日： 1996年05月28日
公開日（公表日）： 1997年12月12日
要約：

【要約】【課題】 被乾燥体の乾燥時間の短縮が可能で、かつ、乾燥後の被乾燥体の表面状態が極めて良好である真空乾燥装置を提供する。【解決手段】 真空チャンバーの底部に設けた排気口の上方に中板を配設し、この中板上に載置用凸部を設けて真空乾燥装置とし、この真空乾燥装置を、載置用凸部上に載置された被乾燥体と真空チャンバーの内側上壁部との距離が調整できるようにする。

請求項（抜粋）：

底部に排気口を有する真空チャンバーと、該真空チャンバー内において前記排気口の上方に配設された中板と、該中板上に設けられた載置用凸部とを少なくとも備え、前記載置用凸部上に載置される被乾燥体と前記真空チャンバーの内側上壁部との距離が調整可能であることを特徴とする真空乾燥装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  F26B 5/04 ,  G03F 7/16

FI (3件)：

H01L 21/30 567 ,  F26B 5/04 ,  G03F 7/16