特許

J-GLOBAL ID：200903029468862437

X線マスク及びその製造方法

発明者： 近藤 和昭 ,  杉島 賢次
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 岡本 啓三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-139318
公開番号（公開出願番号）：特開平5-335216
出願日： 1992年05月29日
公開日（公表日）： 1993年12月17日
要約：

【要約】【目的】本発明は、X線マスクに関し、X線吸収体膜をパターニングする際のシフト量を大幅に低減し、パターン精度を良くすることを目的とする。【構成】(002)に面配向したβ-TaのX線吸収体膜6よりなるマスクパターンを含み構成する。

請求項（抜粋）：

(002)に面配向したβ-TaのX線吸収体膜(6)よりなるマスクパターンを有することを特徴とするX線マスク。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  G03F 7/20 503

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平3-110821
  
• 特開平3-273610
  
• 特開平3-030414
  
• 特開平4-252014