特許
J-GLOBAL ID：200903029478220875
無機シリコン材料粉末とケイ素乃至ゲルマニウム系化合物とからなるハイブリッド薄膜、およびその作製方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三枝 英二 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-074939
公開番号（公開出願番号）：特開平7-278814
出願日： 1994年04月13日
公開日（公表日）： 1995年10月24日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】大面積薄膜形成が可能で、歪みなどへの応力耐性が高く、光・電子物性にも優れた新規な材料を提供する。【構成】Siの粉末とポリシランから生成するケイ素系化合物、ポリゲルマンから生成するゲルマニウム系化合物およびシランゲルマンコポリマ-から生成するケイ素ゲルマニウム系化合物の少なくとも1種を含むケイ素乃至ゲルマニウム系化合物とからなるハイブリッド薄膜をアモルファスや結晶のSi粉末とポリシラン、ポリゲルマンおよびシランゲルマンコポリマ-の少なくとも1種との混合液を塗膜し、これを熱処理するか、あるいはまたポリシラン、ポリゲルマンおよびシランゲルマンコポリマ-の少なくとも1種の蒸気の存在下でアモルファスや結晶のSi粉末の少なくとも1種の塗膜を熱処理して作製する。
請求項（抜粋）：
無機シリコン材料粉末とポリシランから生成するケイ素系化合物、ポリゲルマンから生成するゲルマニウム系化合物およびシランゲルマンコポリマ-から生成するケイ素ゲルマニウム系化合物の少なくとも1種を含むケイ素乃至ゲルマニウム系化合物とからなるハイブリッド薄膜。
IPC (2件)：
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