特許
J-GLOBAL ID:200903029478303665
フォトレジスト組成物のための反射防止膜
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
江崎 光史 (外3名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-510064
公開番号(公開出願番号):特表2001-505234
出願日: 1997年08月15日
公開日(公表日): 2001年04月17日
要約:
【要約】本発明は、新規の反射防止膜溶液およびそれをフォトリソグラフィーに使用する方法に関する。この反射防止膜溶液は、新規のポリマーおよび有機溶媒または有機溶媒の混合物を含有しており、その際新規のポリマーは、約180nm〜約450nmを吸収する染料を含有する単位と架橋基を含有する単位を含有する。
請求項(抜粋):
フォトリソグラフィーに使用するための反射防止膜組成物において、a)以下の構造(式中、R1-R4は、H、(C1-C4)アルキルまたは(C1-C4)アルコキシであり、R5は、OH、NH2、OCH3、またはOCH2CH3であり、R6は、H、(C1-C4)アルキルまたは(C1-C4)アルコキシであり、R7は、H、(C1-C4)アルキル、(C1-C4)アルコキシ、ニトロ、クロロ、シアノ、ジシアノビニルまたはSO2CF3であり、R8は、ニトロ、クロロ、シアノ、ジシアノビニル、SO2CF3、SONH2、COOY、SO3Y、ここでYは、Hであり、Xは、N=N、CZ=CZ、CZ=N、N=CZの共役部分であり、ここでZは、H、(C1-C4)アルキルまたは(C1-C4)アルコキシであり、mは、1-3であり、nは、1-4である)を有する少なくとも一種の染料単位;および以下の構造(式中、Yは、架橋官能性を含有しておりそしてR1〜R3は、H、(C1-C4)アルキルまたは(C1-C4)アルコキシである)を有するポリマーを架橋することのできる少なくとも一種の単位を含有するポリマーおよびb)好適な有機溶媒を含有する上記反射防止膜組成物。
IPC (3件):
C08L 33/26
, C08F 8/30
, G03F 7/11 503
FI (3件):
C08L 33/26
, C08F 8/30
, G03F 7/11 503
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