特許

J-GLOBAL ID：200903029482232128

塗布装置

発明者： 鈴木 章弘 ,  柴田 徳夫 ,  高橋 伸輔 ,  都丸 美喜男
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-059421
公開番号（公開出願番号）：特開平5-220437
出願日： 1992年02月13日
公開日（公表日）： 1993年08月31日
要約：

【要約】【目的】 支持体の幅方向塗膜厚み変動やムラスジ発生を抑えて、塗布厚みが均一でムラスジ等の故障のない薄層塗布製品を高速で安定して製造する装置。【構成】 支持体移動方向に対して上流側に位置するフロントエッジと、該支持体移動方向に対して下流側に位置しその先端が前記フロントエッジよりも段差をつけて反支持体方向に後退していて先端部が鋭角なバックエッジとを有するエクストルージョン型塗布ヘッドである。前記支持体の塗布面に、あらかじめ塗布された低粘度の液11によって液封された状態で、塗布層を形成する前記塗布ヘッドの先端部のスリット内面4及びフロントエッジ面5およびバックエッジ面6にて該各面の支持体幅方向のろ波中心線うねり(W<U><SB>CA</U></SB>)が0.2 μm以下に構成された塗布装置。

請求項（抜粋）：

支持体移動方向に対して上流側に位置するフロントエッジと、該支持体移動方向に対して下流側に位置しその先端が前記フロントエッジよりも段差をつけて反支持体方向に後退していて先端部が鋭角なバックエッジとを有するエクストルージョン型塗布ヘッドにより、少なくとも一種類以上の塗布液を塗布する塗布装置において、前記支持体の塗布面に、あらかじめ塗布された低粘度の液によって液封された状態で、塗布層を形成する前記塗布ヘッドの先端部のスリット内面及びフロントエッジ面およびバックエッジ面にて該各面の支持体幅方向のろ波中心線うねり(WCA)が0.2 μm以下に構成されたことを特徴とする塗布装置。

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭63-020069
  
• 特開平2-207866
  
• 特開平2-207865