特許

J-GLOBAL ID：200903029512589190

セラミックヒータおよびその製造方法

発明者： 野村 一樹
出願人/特許権者： イビデン株式会社
代理人 (1件)： 安富 康男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-402864
公開番号（公開出願番号）：特開2002-203666
出願日： 2000年12月28日
公開日（公表日）： 2002年07月19日
要約：

【要約】【課題】 加熱面の温度が均一であり、抵抗発熱体の発熱時による断線や、昇温と降温とを繰り返すことによる断線の発生を抑制することができるセラミックヒータの製造方法を提供すること。【解決手段】 セラミック基板に形成れれた抵抗発熱体に、レーザ光を照射することにより切欠を形成し、抵抗発熱体の抵抗値を調整するセラミックヒータの製造方法であって、電流の流れる方向に概ね平行であり、かつ、切欠形成部が一の電流通路のみにより構成されるように、前記切欠を形成することを特徴とするセラミックヒータの製造方法。

請求項（抜粋）：

セラミック基板の表面に所定パターンの抵抗発熱体を形成した後、前記抵抗発熱体にレーザ光を照射することにより切欠を形成し、抵抗発熱体の抵抗値を調整するセラミックヒータの製造方法であって、電流の流れる方向に概ね平行であり、かつ、切欠形成部が一の電流通路のみにより構成されるように、前記切欠を形成することを特徴とするセラミックヒータの製造方法。

IPC (4件)：

H05B 3/20 393 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/66 ,  H05B 3/10

FI (4件)：

H05B 3/20 393 ,  H01L 21/66 B ,  H05B 3/10 C ,  H01L 21/30 567

Fターム (22件)：

3K034AA21 ,  3K034BA06 ,  3K034BB06 ,  3K034BB14 ,  3K034BC04 ,  3K034BC12 ,  3K034FA04 ,  3K034JA01 ,  3K092QA05 ,  3K092QA10 ,  3K092QB02 ,  3K092QB44 ,  3K092RF03 ,  3K092RF11 ,  3K092RF19 ,  3K092RF22 ,  3K092VV28 ,  4M106AA01 ,  4M106BA01 ,  4M106CA60 ,  4M106DJ02 ,  5F046KA04