半導体基板洗浄液

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-138881
公開番号（公開出願番号）：特開平5-335294
出願日： 1992年05月29日
公開日（公表日）： 1993年12月17日
要約：

【要約】【目的】半導体基板に付着した微粒子を塩基性の過酸化水素水溶液で洗浄除去する際の基板表面の荒れを抑制する。【構成】塩基性の過酸化水素水溶液に界面活性剤を添加して基板表面に対する洗浄液の接触角を10度以下とする。【効果】塩基性の過酸化水素水溶液の洗浄効果を低下させることなく、洗浄による基板表面の荒れを抑制できる。

請求項（抜粋）：