特許
J-GLOBAL ID：200903029520759968
薄膜形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
臼村 文男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-259435
公開番号（公開出願番号）：特開平7-090583
出願日： 1993年09月22日
公開日（公表日）： 1995年04月04日
要約：
【要約】【構成】 液晶ディスプレイの前面パネル等の大型の角型の透明基板61が蒸着室11内を移送されつつ、蒸発源13によりその表面に反射防止膜等の薄膜が形成される。透過型膜厚監視装置41により、移送方向の4つのポイント31〜37で透過率を測定して、光学的膜厚がλ/4での透過率の極値ピークを求め、この値から形成されつつある薄膜の屈折率および光学的膜厚を求め、設定値からの差分によりフィードバック制御する。【効果】 屈折率および最終膜厚を制御して、大型基板に連続的に薄膜を形成できる。
請求項（抜粋）：
薄膜堆積ゾーン内で基板を該ゾーンの出発点から終点に向けて移送しつつ、蒸発源から薄膜形成物質を基板上に飛翔せしめて、基板上に薄膜を堆積させ、該出発点と終点との間に、移送方向での位置が異なる複数の中間測定点を設け、薄膜が形成された基板の透過率または反射率をそれぞれの中間測定点で同一波長で測定して、形成された薄膜の屈折率を算出し、屈折率が所定値となるように薄膜の堆積条件を制御することを特徴とする薄膜形成方法。
引用特許：
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